第22巻6号(1998年)の静電気学会誌のご案内
特集:セミコン・インダストリー
巻頭言
半導体・液晶ディスプレイ製造における静電気対策
大見 忠弘 275
特集解説
DRAM/SRAM技術と静電気
萩原 良昭 277
フラッシュメモリ
舛岡 富士雄 282
PZT薄膜強誘電体メモリ(FRAM)
高須 秀視 286
単一電子メモリ
矢野 和男 290
超クリーン化技術/静電気対策技術
稲葉 仁 295
超純水技術
埜村 誠 300
Xero-WORDS
Fowler-Mordheim トンネル電流, 酸化膜破壊, CMOS, Cell Library, MOS
305
論文
比熱平衡プラズマによる揮発性有機物質の分解
山下 竜一,小田 哲治 306
電荷重畳法における仮想電荷配置の遺伝的アルゴリズムによる順問題的決定
西村 亮,西守 克己,石原 永伯 310
研究室めぐり
千葉大学における静電気学会員の研究室
山野 芳昭,北村 孝司,星野 勝義 316
第22回静電気学会全国大会報告
松原 美之 318
会告
1998年度静電気学会学会賞受賞者の紹介 319
臨時総会の開催 320
運営理事会・研究委員会のお知らせ 320
関連学会情報 322
静電気学会誌第22巻総目次(1998) 巻末
静電気学会のホームページへ
www-admin. of Oda Laboratory
Dept. of Electrical Engineering, Fac. of Engineering, The University of
Tokyo, Japan
www-admin@streamer.t.u-tokyo.ac.jp
address>