2004年度静電気学会春期講演会 プログラム
日 時:2004年3月5日(金) 10:00-15:35
場 所:東京大学工学部3号館2階
第一会場(25教室)
午前の部 10:00-12:15(休憩10分を含む) (〇印:発表者)
1a-1 静電植毛による低反射率面の形成
(千葉工大) 〇井坂勉,長谷川晶一,關井康雄,林友直
1a-2 空間電荷分布と熱刺激電流の同時測定−PTFE薄膜− (東大工) 〇山下浩司,小田哲治
1a-3 The Effect of a Hot Air Flow on the Corona Charging of a Thin Insulator Film(Tokyo Univ. of Science) 〇Kwang-Seok CHOI, Takashi FUJIKI and Yuji MURATA
1a-4 軟X線式静電気制御システムの開発(能開総合大) 〇芳賀亮太,徳広京亮,岡野一雄
1a-5 高分子粉体の帯電に関与する因子(茨城大工*,産総研**) 〇沓掛健一*,荷福正治**,竹内学*
午後の部 13:20-15:35(休憩10分を含む)
1p-1 溶液の凍結によるDNA分子の伸張固定(豊技大*,分子研**) 〇小松旬*,高島和則*,桂進司*,水野彰**
1p-2 プラズマ表面処理による高分子薄膜の表面改質効果測定(東大工) 〇山下浩司,小田哲治
1p-3 表面コーティングが接触電位差、摩擦帯電に及ぼす影響(茨城大工*,産総研**) 〇杉原鷹雄*,竹内学*,荷福正治**
1p-4 PLD法によるWO3薄膜の作製とエロクトロクロミックへの応用(大分大工*,大分大VBL**) 〇中村彰宏*,光木文秋**,金沢誠司*,大久保利一*、野本幸治*
1p-5 微小ギャップ静電気放電と印加電圧(V)(東理大工) 〇北爪伸英,新條達俊,増井典明
第二会場(26教室)
午前の部 10:00-12:15(休憩10分を含む)
2a-1 H2 Plasma Processed Carbon Nanotube Films; XPS Analysisand Field Emission Property(Univ. of Tokyo) 〇Sunwoo LEE and Tetsuji ODA
2a-2 プラズマ駆動触媒プロセスによるベンゼン分解における銀触媒担持量の影響(産総研) 〇金賢夏,呉性旻,尾形敦,二タ村森
2a-3 Influence of Ammonia on NOx Removal in Corona Discharge-Molecular Sieve Hybrid System(Institute of Fluid Flow Machinery *, Joint Institute of Power and Nuclear Research**)〇Miroslaw DORS*, Jerzy MIZERACZYK*, Genrietta V. NICHIPOR**
2a-4 Application of Catalytic Process for the Effective Treatment of Trichloroethlene in NonThermal Plasma Process(Univ. of Tokyo) 〇SangBo HAN and Tetsuji ODA
2a-5 非平衡プラズマと触媒を用いたC8H18の改質(豊技大*,分子研**) 〇西中村和寿*,松井良彦*,高島和則*,桂進司*,水野彰**
午後の部 13:20-15:35(休憩10分を含む)
2p-1 多孔性セラミックスを用いたマイクロディスチャージに関する基礎特性(豊技大*,分子研**)〇松井良彦*,カロル ヘンセル*,高島和則*,桂進司*,水野彰**
2p-2 レーザ誘起蛍光法による大気中パルスバリア放電中のOラジカルの測定(東大工*,産総研**) 〇山下陽太*,小野亮**,小田哲治*
2p-3 液相放電による硝酸イオンの還元反応(豊技大*,分子研**) 〇木下洋平*,奥村直樹*,高島和則*,桂進司*,水野彰**
2p-4 窒素酸化物を含む大気圧窒素中パルスバリア放電により発生する原子酸素ラジカルのLIFによる挙動観測(東大工*,産総研**) 〇武澤慶*,山下陽太*,小野亮**,小田哲治*
2p-5 液中放電を用いた炭化水素燃料の改質(豊技大*,分子研**) 〇川上総一郎*,松井良彦*,西中村和寿*,高島和則*,桂進司*,水野彰**